グローバルリフトオフレジストのトップ会社の市場シェアおよびランキング 2025

リフトオフレジスト（Lift-Off Resist）は、微細パターン形成において不要部分を物理的に除去し、金属薄膜や導電層を選択的に残すための特殊感光材料である。主に半導体、MEMS、ディスプレイ、光電子デバイスなど、微細加工技術を必要とする分野で用いられ、従来のエッチングプロセスでは困難な三次元構造や複雑形状のパターン形成を実現する。通常のフォトレジストとは異なり、リフトオフレジストは「段差制御」「膜厚均一性」「金属密着性」といった複数の要件を同時に満たすことが求められるため、材料設計・塗布・焼成・剥離の全工程で高い技術統合性が要求される。特にEUVリソグラフィーや先端パッケージ技術の普及が進む現在、その適用領域は着実に拡大しつつあり、リフトオフ技術は微細化限界を打破するための重要な支柱となっている。